二手 MRC 643 #293741512 待售

MRC 643是一种磁控管反应溅射设备，用于选择性薄膜沉积。该系统包括三室磁控管等离子体电源、可远程编程电源、外部控制器板和高精度旋转级。磁控管室，又称基板室，容纳溅射目标磁铁，以及基板台。基板台可容纳直径200毫米、高度50毫米的两种基板。等离子体源由直径300毫米的圆形磁控管目标组成，具有32极设计，能够在内外表面之间产生均匀的磁场。外部控制器板设计用于将电源和相关程序与溅射目标接口。该板装有一系列温度传感器，以及压力传感器和电阻温度探测器。溅射目标由石墨源和硅源组成，两者都装在磁控管腔内。石墨源是一种金属氧化物，由位于腔室底部的电加热灯丝蒸发氧化。通过在灯丝周围产生氦气流动，金属氧化物被带离磁控管目标，从而防止氧化物积聚。硅源是一种氧化铝涂层的碳化硅材料，加热到受控温度。电源能够为设备中的两个溅射目标提供1000瓦的功率输出。它还支持许多可编程的应用,包括调整机械旋转级、电压和电流,以及控制面板功能。该机还提供了一种离子量规，可以在溅射过程中测量腔室内的工作压力，从而能够精确控制工艺参数。643是一种高度先进的溅射工具，旨在达到最高层次的选择性、均匀性和过程重复性。经过严格测试的参数以及先进的溅射技术使资产非常适合任务关键溅射应用。强烈推荐用于研发、半导体和显示器制造、节能材料等先进溅射应用。