二手 MRC 643 #293758605 待售

MRC 643是一种无功直流磁控管溅射设备，由两个阴极、两个平面磁控管、两个电源和两个真空室组成，用于处理薄膜沉积在基板上的材料。该系统采用顶载式三轴驱动机构,可实现高材料吞吐量。使用先进的光学自动化工具可以进一步加强这一点。中心室通常用作基板支架，外室包含溅射源。供电直流磁控管溅射是由强磁场产生的，提高了沉积过程的均匀性。磁控管-阴极对放置在一个可以精确控制压力的腔室中。腔室的受控环境也使过程稳定可靠。MRC 663单元还具有热电子发射功能，可对腔壁进行溅射前后清洗，使其成为沉积多层薄膜的有效工具。通过沉积过程中停留时间和斜坡时间的编程，可以得到所需的薄膜体积和表面性质。由于其高效、自动化的清洗工艺，该机非常适合半导体制造和薄膜沉积等应用。MRC 663工具还具有压力控制功能,能够处理各种材料,包括金属、合金、氧化物和硫化物。资产中的压力控制允许更多的控制沉积，从而提高过程的精度和准确性。所有这些特性使得MRC 663模型成为所有薄膜沉积应用的诱人选择，从纯粹的装饰应用到更复杂的高科技应用。