二手 MRC 643 #9004057 待售

MRC 643是一种高性能物理气相沉积（PVD）溅射设备，允许用户以极高的精度将薄膜沉积在多种基板上。643利用高真空系统和溅射基板上的目标材料，生产速率高达10纳米/秒，可以提高生产率和效率，同时降低材料成本。其独特的设计特点是具有6个独立的倾斜式溅射枪单元，从而提高了沉积过程的灵活性和定制化，使得能够以极好的均匀性同时沉积不同的材料成为可能。MRC 643包括集成的锁载室、腔室再循环、自动基板清洗过程、温度控制环境和完全与CAD/CAM兼容的操作单元等多种功能。该机专为工业用途而设计，包括各种集成功能，以最大限度地提高准确性和可靠性。独特的冷却工具有助于延长目标材料的使用寿命并降低维护成本。该资产可以量身定制,以满足特定的客户需求,并允许各种沉积速率、目标大小、目标到基材的距离以及不同的目标材料。该模型还被设计为与晶圆、太阳能电池、闪存和形状复杂的基板等多种基板兼容，使其成为研发和生产应用的理想选择。643的控制设备EZ-Dep 2旨在通过用户友好的图形界面优化沉积过程。这允许用户设置工艺参数，监控沉积参数，实时调整溅射参数，以实现更高的精度和控制。MRC 643为用户提供了一种可靠且可重复的方法,可以将薄膜沉积在各种基板上,同时最大限度地提高生产率和成本效率。其独特的设计、先进的功能和用户友好的控制系统使其成为工业溅射应用的理想选择。