二手 MRC 643 #9124209 待售

MRC 643是一种高性能直流磁控管溅射设备，设计用于各种应用的材料的高通量沉积。它具有可配置的三区腔室配置，最多可支撑三个沉积阴极，允许高密度多层薄膜堆迭。该系统配备了高达5000瓦的电源,并且能够提供高达2500瓦的溅射功率,这意味着它可以覆盖广泛的应用。643的三区室构型是多层堆栈沉积的理想选择，因为底物和沉积阴极可以在空间上分离，以避免对底物或沉积层的污染。该室还包括其他功能,例如集成压力控制单元,它提供快速可靠的压力控制,最小设置压力为1 mTorr,最大设置压力为4 Torr。MRC 643还通过六指载荷锁定设计实现了向基板的良好质量传输,从而确保了向基板表面的均匀质量传输。薄膜层的沉积速率可以很容易的控制，允许从1-10Å/秒~的一系列沉积速率。它还能够执行反应性溅射过程以及原位清洗和蚀刻基板,从而在过程实施过程中加强控制。643还配备了完善的安全协议,为机器和人员提供可靠的保护。整个溅射工具由计算机可编程的专有控制软件控制。它能够创建半自动流程,从而节省时间并减少人为错误。总体而言，MRC 643提供了出色的溅射资产，能够对多种材料进行高通量处理和薄膜沉积，使其成为各种表面工程应用的理想模型。