二手 MRC 643 #9206604 待售

MRC 643是为长期、高通量、精确的薄膜沉积而设计的高性能溅射设备。利用高功率射频发电机实现的多目标泵浦磁控管溅射头，对均匀涂层和层厚进行了优越的控制。该系统利用其专有的先进薄膜生长引擎,以确保最高的目标利用率和沉积薄膜同质性,并易于使用用户友好的图形用户界面（GUI）。该装置的溅射室装有上部眼螺栓网络，便于进入内部，并装有负载锁，以提高吞吐率。腔室的下部由两个独立的腔室组成，一个腔室加热至最大330 C，另一个腔室设计用于干蚀刻，可装载最多两个独立的基片。此外，腔室可以容纳直径达200毫米的基板。该机包括一个坚固的冷却电路和附加的可选温度控制,使基板温度降至100 °C。脉宽调制（PWM） DC-DC转换器具有单独控制的目标,由GUI控制。所有沉积参数均由GUI的自动记录保存工具收集和存储。除了由多目标溅射器实现的超高沉积速率外，该资产还提供了各种溅射角度的出色膜均匀性。具有较高的可重复性和可重复性，具有较低的缺陷包涵和无与伦比的薄膜性能。它还提供了多种可能的化学计量方法，并且能够针对不同的沉积要求进行简单和快速的设置。总体而言，643溅射模型已成为薄膜沉积的一种广泛应用的工具，尤其是在精度和速度是关键的情况下。它提供了对均匀涂层和层厚度的卓越控制,能够为广泛的应用创建稳定、高性能的薄膜。