二手 MRC 643 #9229736 待售

MRC 643是一种用于材料和结构中心的溅射设备，由剑桥纳米技术公司开发。该系统的设计目的是提供专门的材料表征和电路制造服务，具有集成离子源等特殊功能，可用于精密沉积薄膜。该产品是一种功能强大、用途广泛的表面分析设备，具有用于沉积金属涂层和电路的溅射能力。643溅射装置设有一系列溅射枪，可在很大范围内控制金属薄膜的沉积。溅射枪在基材上产生高品质、均匀的涂层，导致较高的接触阻力和均匀的掺杂掺杂。该枪标有：RF、DC/RF和二极管，允许根据应用选择最佳溅射技术。该机还设有控制溅射过程的高频波形发生器，以及允许沉积复杂几何形状的柔性基板支架。此外，该工具还配备了一个特殊的腔室，用于在溅射过程中容纳和保护基板。该室采用均匀的平底设计，用于均匀的溅射膜。资产还具有用于精确掺杂的集成离子源，从而消除了源偏差，并防止杂质在沉积过程中污染材料。离子源还具有低能沉积装置，可直接掺杂高度敏感的设计和组件。最后,该模型安装在坚固可靠的不锈钢外壳中,设计用于在工业或实验室环境中提供高效、安全和稳定的操作。外壳配有气锁安全室，可冷却至-60°C，确保性能优越。总体而言，MRC 643是一种通用的溅射设备，提供先进的金属薄膜和电路的精密沉积。它具有高频波形发生器、集成离子源、坚固可靠的不锈钢外壳和低能沉积装置，以获得最佳效果。该系统适用于范围广泛的应用，从复杂的几何形状到高度敏感的设计。