二手 MRC 643 #9265606 待售

MRC 643是一个最先进的溅射系统，非常适合用于研究和工业应用。它由两个主要组成部分：一个装有磁控管溅射源和基板支架的阴极腔和一个装有离子源和加速器单元的加速柱。643的阴极腔室设有两个涡轮分子泵送系统，使腔室和溅射源保持在真空状态。它还包含两个四口袋电动机械旋转多行基板支架,能够容纳尺寸不超过4英寸的单个或多个基板。可调溅射源允许沉积速率的变化，并提供可靠的角度溅射能力。MRC 643的加速柱由利用射频离子源的离子源和加速器、加速栅格和集电极栅格组成。离子源产生一束来自源材料的带正电荷的离子，如氙气（Argon）或氙气（Xenon），并将这束束引向底物。加速栅格以高达20 keV的速度传递粒子束，而集电极栅格则保持剩余的离子重新沉积到基板上。总体而言,643是一个高度通用的系统,旨在处理各种应用程序,并提供卓越的精度和准确性。通过结合高沉积速率、优异的均匀性和可重复性，以及优越的角度溅射能力，该系统非常适合研究机构和生产作业。MRC 643由于运营和维护成本低,是当今市场上最具成本效益的溅射系统之一。