二手 MRC 643 #9303325 待售

製造商
MRC
模型
643
ID: 9303325
Sputtering system.
MRC 643是材料研究公司(MRC)设计的最先进的溅射沉积设备。该系统能够以每分钟100纳米的速率沉积多层各种材料的薄膜,最大腔室尺寸为450x450 x 450mm。643是当今市场上最通用的溅射沉积系统之一,能够沉积多种不同材料的薄膜。MRC 643是多种应用的理想选择,可用于多种不同表面工程和薄膜应用,如金属惰性气体(MIG)涂层、光学涂层、太阳能电池、液晶显示器和半导体器件。该单元还包括温度控制、过程控制等一系列可编程参数,以确保每次都有高质量的沉积。该机配备了400kHz电源,能够提供高压,达到每分钟超过100纳米的最大沉积速率。该工具还包括控制器、浮动基板支架、气体输送资产和冷却模型。还提供了自动设备校准辅助程序(ASH),以确保系统处于最佳状态。643由包括主控制器、电源控制板和两个独立处理室在内的主机组成。这两个过程室具有独立的控制功能,可用于平行沉积过程或共沉积过程。MRC 643单元还具有多种安全功能,如腔室互锁、通风机、净化能力和热失控保护。643是一种可靠、用途广泛、成本效益高的溅射沉积工具,已被证明是客户首选的溅射资产。该模型提供了对薄膜沉积参数的精确控制和良好的可重复性。无论是寻找薄膜沉积还是金属惰性气体(MIG)涂层,MRC 643都可以定制以满足任何需求。
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