二手 MRC 693 #9302975 待售
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MRC 693是由MRC设计制造的溅射设备。用于半导体器件、集成电路(IC)封装、光电器件等薄膜应用的研发。这种高性能系统能够在大面积上沉积均匀性好、步长覆盖好的薄膜。693的主要部件包括钨卤素灯,用于溅射目标的线性照明;射频电源和溅射枪;气体分配系统;整体真空单位;可旋转基板支架;以及真空控制器。灯具和射频电源可调节,可精确控制存放优质薄膜所需的参数。钨卤素灯采用可调节电流控制,为溅射目标均匀照明提供可调节的辐射功率范围。射频电源用于创建目标材料溅射到基板上所需的等离子体状态。MRC 693的一个独特特点是配气机。它使用专利气体喷射器控制溅射过程中使用的气体;这保证了在大型基板上均匀的溅射速率。气体分配工具还允许良好的压力范围,这是保持高质量膜沉积的关键。此外,该机组还配备了集成真空资产,使用旋转叶片真空泵实现2毫巴或以下的底压。693是一种多功能溅射模型,非常适合多种薄膜应用。它可以在大面积上沉积具有良好台阶覆盖率的薄膜,并提供极好的可重复性。此外,MRC 693提供了出色的均匀性,这在许多应用中都很重要。其可调参数和可调气体分配设备也使其易于在一系列不同的应用中使用。
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