二手 MRC 822 #9388780 待售

MRC 822是一款高性能、双源反应离子溅射设备。它装有两个独立的溅射源：一个电子束枪和一个磁控管枪，都装在屏蔽室中，并装有闭环冷却系统。电子束枪由专用电源校准和控制，而磁控管枪则由外部电源供电。电子束枪是一种所谓的"光束对靶"设计，意思是它包含一个电子源，聚焦光学器件，以及一个以水冷为后盾的粗短钨靶。这种溅射源具有广泛的可调参数范围，包括束电流、枪偏置电压和快门开启时间，允许精确控制溅射材料成分、速率和薄膜厚度。磁控管枪设计用于总屈服溅射，其中从阴极中释放出的氙气，以使目标材料保持熔融状态，允许产生纳米粒子。这个源也可以调节，气体流量、气体成分、压力等参数都可以调节。溅射室由三个主要部分组成：真空室本身、带样品支架的基座和磁性屏蔽。该腔室的泵送速率为20 mTorr，并配有离子计控制器（IGC）以精确监测腔室压力。基板安装座可容纳尺寸可达200毫米的样品，并能够旋转和加热至375 °C。腔室还具有几个安全特性，包括漏气探测器和紧急通风阀，可以快速降低腔室压力。总体而言，822是一款先进的溅射装置，提供全方位的可调溅射参数、大型基座、高效的冷却机等，可以产生各种厚度和成分的优质薄膜。适用于广泛的涂层和薄膜研究项目，如外延生长、金属和金属间沉积、氧化表面、扩散屏障等。