二手 MRC 8620 #293605798 待售

MRC 8620是一种先进的高性能溅射设备，用于物理气相沉积（PVD）在材料研究、表面工程以及其他多个技术领域的应用。溅射系统具有8目标、可变角度、基于磁控管的配置，提供了广泛的过程灵活性，包括可变压力、温度、电压和电流。该单元由坚固的不锈钢室、真空操作门和源构成。它还具有循环时间小于3分钟的长寿命扩散泵和快速循环时间的涡轮分子粗加工泵。高精度温度和气体控制器可精确控制沉积过程中的温度和压力。高级控制界面有助于直观操作,并且可以存储多达1000种配方,以便于过程复制。8620能够将多种材料，包括金属和合金、氧化物、氮化物和聚合物沉积到多种底物上。它可以精确控制薄膜厚度、成分、晶粒尺寸等多种应用，包括溅射靶标、防护涂层（如防腐蚀）、防反射涂层、透明导电氧化物等等。MRC 8620具有高功率的沉积能力.八个独立源中的每一个都有一个主动磁场机，能够快速倾斜和精确控制过程参数。射频功率通过可编程的频率和调制分配至10kW,而直流功率可提供至3kW,具有调节脉冲时序和上升/下降时间的能力。一个额外的离子源可以掺入等离子体活化。8620还提供了广泛的安全功能,包括紧急情况下的自动关闭、门联锁系统、基于计时器或时间表的自动启动以及用于故障检测的RF电源监控工具。此外，该装置还包括一个用于有效处理反应性气体和蒸气的废气资产。MRC 8620是一款先进的溅射模型，提供了广泛的PVD相关工艺能力，包括高速率沉积、精确的薄膜厚度和成分控制，以及广泛的安全特性。8620凭借其可靠的构造、直观的控制界面、快速的循环时间，是应用于材料研究、表面工程等相关技术领域的理想解决方桉。