二手 MRC 8667 #9007986 待售

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製造商
MRC
模型
8667
ID: 9007986
RF Sputtering system WPLC Chamber Missing part: Pump Generator is down.
MRC 8667是为高质量、高通量薄膜沉积而设计的溅射设备。系统的主要部件包括高功率射频(RF)溅射源,用于将物料从源传递到基板上,旋转目标,屏蔽快门和负载锁定机构。射频溅射源提供三种不同的电源设置,以适应不同的溅射需求。目标是一种可快速沉积和均匀涂覆薄膜的旋转机构。屏蔽快门是可调的,可以根据需要关闭或打开,以防止材料在溅射过程中进入单元。载荷锁定机构用于最小暴露于空气中的底物的装卸。8667具有先进的控制机器,用户可以精确控制溅射沉积速率。此工具可精确控制溅射速率、目标温度和压力。此外,资产内的溅射源可以很容易地去除,换成不同的材料集,以便快速和容易的目标蚀刻。该模型还具有多步编程功能,允许用户使用单个设置来存放多层。MRC 8667适用于苛刻的工业应用,如氧化物、氮化物、偶联层沉积,以及复合材料沉积。它也适用于精密溅射的材料,例如氙、碳化硅、钨等。该设备与广泛的基板兼容,包括裸露的和有图桉的基板,这使得它非常适合各种应用,从半导体和LED制造到航空航天和国防工业。8667提供了优越的表面光洁度和低缺陷密度和改进的可预测性和过程可重复性。该系统还设有一个综合安全单元,可用于快速探测和应对任何潜在的安全危险。这台机器耐用、可靠、高效,为用户提供高性能、经济高效的溅射工具。
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