二手 MRC 8667 #9128020 待售

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製造商
MRC
模型
8667
ID: 9128020
Sputtering system Configured for 3 targets Co-sputtering ION/TC gauge Etch option CTI 8 cryopump and compressor LH D30A dual stage vacuum pump.
MRC 8667是为工业和研究应用而设计的高端溅射设备。该系统设计用于使用磁控管溅射工艺对各种材料进行溅射。这一过程包括利用磁场将薄膜均匀地沉积到目标材料上,同时保持精确的厚度控制。该单元提供两个标准基板支架,每个支架的直径范围可达8英寸。在较大的基板上使用可选的三头可获得较高的沉积速率涂层。8667还包括一个可变电源和一个精确控制沉积过程的计时器。可变电源允许电压和电流的变化,而计时器设置涂层过程的持续时间。该机采用独特的磁线圈设计,在目标材料周围产生轴向磁场。这会在整个基板表面产生更均匀的溅射速率,从而使薄膜均匀。在此过程中,目标材料由风冷头固定到位,有助于防止沉积过程中的热损坏。MRC 8667有一个车载触摸屏显示器,允许直接控制溅射过程而无需计算机。显示器显示包括工件温度和基板温度在内的信息,允许用户在过程发生时监视该过程。该工具带有一个全面的安全资产,在处理设备的同时保护用户。这包括紧急停止按钮、紧急排气模型和锁定设备。还包括用于精确厚度监测的自动流量校准和参数感测。为了获得最大的可用性,系统有多个输入/输出端口,可用于添加控制系统和监视溅射过程。其中包括一个以太网端口,它允许直接控制和记录沉积参数及其他信息。8667单元是为工业和研究应用而设计的高端溅射机。由于其独特的溅射头和磁线圈设计,该工具具有精确的厚度控制和均匀的薄膜沉积。除了安全功能外,该资产还配备以太网连接、自动流校准和各种显示器功能,确保不断的反馈和最大的可用性。
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