二手 MRC 8667 #9239313 待售

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製造商
MRC
模型
8667
ID: 9239313
Sputtering system Manual loadlock with pumping system Cryo pump installed Does not include compressor No DC power supply No mechanical pump MFC For gas control.
MRC 8667是Applied Materials生产的多功能DC/RF溅射沉积设备。这种沉积系统是为半导体工业而设计的,因为它使用可旋转的热屏蔽将多个过程组合在一个单元中。该机提供精密的工艺集成、均匀的涂层、最佳的吞吐量和较高的正常运行时间。该工具具有一个大型(2.3米x 1.0米x 1.5米)腔室和先进的集成硬件,包括石英淋浴头、可旋转隔热罩、冷冻泵、底压显示器和八通道工艺控制器。隔热罩可使多达四个晶片在同一模块中同时被溅射涂层,使总溅射时间减少多达70%。此外,基础压力监视器和先进的集成硬件使资产能够保持优化的设置,如温度、压力和射频功率,从而实现卓越的薄膜特性和出色的均匀性。8667型号具有高度的灵活性,能够提供单一或多个射频功率,在不同的目标和功率下精确且可重复地沉积多种薄膜,以及具有不同的占空比和气体流量的多种配方。在淋浴和基板上使用单独的腔室组件,可确保以最快的周转时间进行最小的维护。此外,该设备的设计目的是节约能源,这意味着它产生几乎为零的排放,并且在1.2平方米的占地面积内需要不到1.3kW的电力。MRC 8667还包括用于用户定义过程精确管理的尖端过程控制软件。此软件使用户能够监视、控制和修改溅射过程。用户还可以访问基于软件的溅射沉积包,以最大限度地提高复杂应用的性能,如绝缘子上硅溅射沉积和金属氧化物半导体制造。总之,8667溅射系统是一种先进的溅射沉积装置,提供精密的工艺集成、均匀的涂层、最优的吞吐量、高的正常运行时间。此外,其集成的硬件和过程控制软件使其具有高度的灵活性,能够精确和可重复地沉积各种不同气流和载荷周期的薄膜。这台机器是一个理想的解决方桉,为半导体行业寻求最大的性能复杂的应用。
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