二手 MRC 902 #50686 待售
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ID: 50686
Sputtering system
(2) Targets: ANGSTROM SCIENCES planar magnetron, 5x15"
(2) MFC's: UNIT
Controller: TECHWARE 68000
DC power supplies: ADVANCED ENERGY MDX-5
High uniformity shield (used for TaN sputtering): 1% across the pallet
MKS 270 and baratron
GP-303 IG controller
Flat screen monitor
Membrane keyboard.
MRC 902是一种最先进的溅射设备,设计用于存放用于科学研究和工业应用的材料。它配备了高级射频(RF)源和直流(Direct Current)基板偏置控制,从而实现了更高的精度和准确性。利用精确的温度控制,系统可以实现精确的沉积速率,允许各种不同性质材料的精确沉积。902配置了两个阴极:一个主阴极能够溅射多种目标材料而不会重新调整阴极位置,以及广泛选择的单材料辅助单元。辅助单元可以配置为适应目标的各种形状和大小,从而能够在一系列基板上进行沉积。此外,该单元还包括一个精密的EUV(极紫外线)组件,用于在薄至10埃的层中制造更高纯度的材料。MRC 902配备了超稳定射频输电机和强大的控制电源流量的能力,可实现精确、一致的材料沉积速率和沉积厚度。此外,RF电源工具使资产能够以不同的组合溅射多种材料,用于高度定制的应用程序。通过使用先进的闭环温度控制,可以使溅射过程保持严格的工艺公差,这有助于确保均匀的层厚度。该模型包括一个集成的排气和净化设备,可以精确调节室内的氧气浓度,从而确保最高质量的沉积物。902具有许多其他功能,使其成为几乎任何应用程序的理想溅射系统。它提供了一个用户友好的触摸屏界面,易于调整和监控。该仪器还提供监测和报告过程参数的高精度测量能力。最后,还包括用于捕捉沉积过程的高分辨率图像的工具,用于目视监测。总体而言,MRC 902是一个功能强大的溅射装置,为研究和工业用户提供无与伦比的性能和可重复性。它设计用于处理各种材料和基材,能够实现高度精确和精确的沉积。
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