二手 MRC 902 #9229738 待售

MRC 902是为薄膜沉积而设计的通用磁控管溅射设备。该系统能够将介电、金属和透明的导电氧化物沉积到各种基板上，包括：硅片、平面和3D物体。该单元采用永磁直流磁控管溅射源，在目标表面上提供均匀的溅射分布。磁控管源能够以可调功率和气体压力速率溅射合金和化合物。它的可调功率和气体压力速率使用户能够以不同的沉积速率和目标材料实现对整个过程的控制。此外,机器中的可转动源允许对大型或复杂基板进行均匀覆盖。902还提供了精确、通用的沉积速率和厚度控制。厚度可以在0-100 nm之间进行调整,从而可以沉积具有精确所需厚度的薄膜。此外，它还配备了自动化压力控制器，让用户能够快速改变气体压力和功率水平等过程参数。MRC 902设计为通过外部真空室容易粘附在多种基板上。这种较短的循环时间将总沉积时间从几分钟减少到几秒，从而提高了沉积速率，从而提高了每小时的沉积速率。此外,该工具高度自动化,可实现精确控制和流程可重复性。在安全性方面，该资产采用内置流程气体监测器，有助于避免污染。它还具有目标监视器,可帮助检测整个过程中目标材料的任何变化。此外,它还具有一个射频接口单元,可提供额外的安全性,以防止不必要的射频干扰。综上所述，902是一种非常可靠、高效、准确的溅射模型，适用于各种薄膜沉积应用。凭借其可调的气体压力和功率水平，精确的薄膜厚度控制，自动化的压力控制，有助于提高薄膜质量，提高每小时沉积速率。总而言之,MRC 902是任何实验室制作薄膜产品的绝佳选择。