二手 MRC 902 #9254520 待售

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製造商
MRC
模型
902
ID: 9254520
Sputtering system (2) Targets clamp-on DC magnetron Pallet, 12" for wafer load / Unload RF Plasma etch Water cooled CTI-CRYOGENICS 10 Cryo pump.
MRC 902是物理气相沉积(PVD)过程中常用的一种溅射系统。它是一种高纯度、单端或双端、冷壁、二极管溅射系统,带有两个6英寸或8英寸的磁控管。它利用高能电子束作为离子源,使其达到比其他溅射系统更高的沉积速率和更好的保形性。902利用其专利的"级联"偏置方法,能够实现更高的沉积速率,达到每分钟40埃,以实现广域覆盖和保形。它还结合了对磁控管的压力、功率和几何配置的仔细优化,以提高均匀性性能。电源还设计为使用先进的保护电路,以防止高压电弧和其他异常性能。MRC 902配备了集成的平面管电源,允许两个6英寸或8英寸磁控管耦合,同时保留了单端和双端操作的双重能力。此高级功能使902能够在运行小型和大型基板时实现更高的吞吐量。此外,如果在多室系统中安装多个MRC 902,则可以远程控制平面管电源。MRC 902还配备了自动化机制,可以轻松编程以提供不间断的性能,让用户大幅减少重置和处理时间。其易于使用的图形软件界面可用于流程参数调整和数据检索,进一步增强了这一点。902设计用于溅射薄膜、半导体器件处理、光学涂层、数据存储和显示显示器等广泛应用。其高可靠性和鲁棒性使其适合在航空航天、汽车、医疗器械制造等多个行业使用。它的特点也使得它成为需要精确过程控制和灵活性的研发应用的绝佳选择。
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