二手 MRC 902 #9286004 待售

MRC 902溅射设备是为半导体材料加工研究应用而设计的先进沉积工具。用放电产生的高能离子轰击目标材料，用于在基板上制造薄膜。溅射的工作原理是首先通过感应电流在真空室中产生一个由气体离子组成的等离子体。然后，将目标材料从目标源溅射到基板上，作为薄沉积物。902溅射系统提供了对沉积过程的精确控制，允许创建厚度均匀的精确薄膜。该单元具有多种特性，包括22个目标源配置、多个溅射源和电流密度可变的溅射源。该机还具有5轴机械臂，用于源操纵和精确目标定位。它能够在大面积基板上实现高度均匀的全覆盖层.MRC 902还有一个精密的沉积过程实时监测过程控制工具，具有可调参数以优化膜性能。这些参数包括压力、真空水平、温度、过程气流、源组成和功率水平，以及目标到基板的距离。该资产还配备了直观的用户界面以实现高效操作。902溅射模型是一种可靠、通用的制造和研究应用解决方桉。它生产具有精确控制的均匀薄膜，为制造商提供适用于先进设备应用的优越基板。由于其众多的特性和用户友好的界面，它是市场上最流行的材料沉积和研究系统之一。