二手 MRC 902M #83149 待售

MRC 902M溅射设备是一种技术先进的物理气相沉积系统，为一系列基材材料提供快速高效的层状沉积。该装置设计用于将薄膜沉积到基板上，包括金属、半导体、绝缘体、电介质和聚合物，并具有最大的精确度和控制力。在沉积系统方面，902M拥有多种功能，将其置于自己的类别中。首先，MRC 902M采用了一种新颖而坚固的磁控管溅射技术，具有高压直流溅射源，具有优异的性能和效率。这使得机器能够以无与伦比的精度和控制来沉积均匀且无缺陷的薄膜。此外，902M还配备了先进的过程控制工具和数据采集系统，使用户能够实时监测和记录沉积参数以及最终产品性能数据。这对于检查表面特性，如层厚度、表面粗糙度、附着力和基板致密度特别有用。除了先进的工艺控制工具外，MRC 902M还拥有一个创新的真空沉积室，非常适合各种尺寸和形状的基板。902M配置有专门设计的气体分配工具，以确保高纯度的氮气、氙气或其他工艺气体能够输送到目标表面，以获得最佳的层沉积性能。该资产还具有改进的大功率磁性模块，以增强均匀性，并通过其圆形磁阵在大型目标表面上提供最大均匀性。最后，MRC 902M提供了强大的安全功能，以保护用户免受意外或危险接触溅射材料。该模型专门设计了一个保护室，防止溅射粒子逃离室内，破坏工作环境。这一特点在处理金属、合金等有害导电材料时尤为重要。902M是一种极好的沉积设备，可用于将均匀、无缺陷的层以最高精度和控制的方式沉积到各种基板上。其先进的过程控制工具和安全特性使其成为物理、化学、工程和半导体技术领域的一系列应用的理想选择。