二手 MRC 903 series #5708 待售

MRC 903溅射设备是一种全自动溅射系统，旨在提供金属、介电、半导体和超导材料的均匀、可重复的沉积。它是闪存金属化、半导体器件金属化、掩模涂层、磁感应器、光学涂层、太阳能电池涂层等多种应用的理想工具。该单元包括以下步骤：预溅射阶段、低压溅射阶段、后溅射阶段和真空蚀刻阶段。针对每一步，对总运算进行优化，以获得最高的吞吐量，包括具有多轴级的高精度级控制、同时多截面溅射以及具有精密过程监控功能的加热/冷却硬件。基板级包括一台先进的基板运动控制机，具有封闭溅射时间和腔室压力的实时闭环控制。它还利用电子束加热函数提供均匀的温度分布。此外，该级还配有电子束蒸发器，可用于多向溅射，甚至用于蚀刻和清洁等工艺步骤。电子束蒸发器也可用于通过控制基板温度和真空水平来控制溅射速率和厚度均匀性。该工具的磁控管溅射技术允许绝缘体、导体和半导体溅射沉积在不规则和小面积的基板上。使用三个广角范围的磁控管完成溅射过程。溅射速率可以通过等离子体功率、腔室压力和气流等各种参数来控制。资产完全配备了旨在管理配方和定制实现高效溅射过程所需参数的软件。对于后溅射阶段，MRC 903有一个内置冷却模型，旨在防止不希望的物料沉积，从而更好地控制沉积过程。真空蚀刻阶段采用原子力显微镜，能够精确控制蚀刻水平，并允许精确控制沉积的图样形状、深度和材料厚度。MRC 903可用于研发和生产,自动溅射过程可实现高度控制,缩短周期时间,提高产量。由于其灵活性和可靠性,它是广泛应用的理想设备。