二手 MRC 903 series #85308 待售
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ID: 85308
晶圆大小: 12"
Vertical / downward sputtering system, 12"
Includes:
Chamber, load-lock and chassis
Cryo pump, helium lines and compressor
Rough pump
Hydraulic pump
Siemens/Omron PLC system with Siemens HMI
Computer system, wiring, pneumatics
Motor drive system
Safety interlock and emergency stop system conforming to current EU SEMI standards
10K DC power supply
Full set of documentation containing electrical drawings, user and maintenance manuals
(2) cathodes without material (dep material unknown)
Control system capable of storing 256 multi-step user selectable recipes, automatic pump-down and cryo regeneration routines.
MRC 903系列溅射设备是一种生产级工具，用于将各种材料的薄膜沉积到基板上。它旨在实现大型生产运行中精确和可重复的薄膜沉积。该系统利用直流、射频和脉冲直流电源实现溅射沉积的多种技术选择。MRC 903是一种先进的物理气相沉积装置，能够在大基板上沉积100 nm-500nm薄膜，生产运行大。机器包括一个旋转目标组件，允许各种材料被溅射，以及用于直流和射频磁控管溅射的选项。直流电源可变到500伏,射频电源可变到500瓦。该工具具有多种过程控制功能,可对沉积过程进行精确控制。这些功能包括计算机控制的可变压力室、多区域温度控制器以及高级流程监控资产。用户友好界面还提供高级编程选项，允许随意开发、存储和召回复杂配方。MRC 903溅射模型有一个有源视图室，可以现场观察沉积过程，从而可以实时优化条件，达到理想的薄膜效果。此外,该模型还可以与自动化的源到样传输设备集成在一起,从而能够在大型基板上快速、高效和可重复地沉积薄膜。总体而言，903系列溅射系统是一种可靠、先进的薄膜沉积生产解决方桉。该设备具有高性能的溅射功能、先进的功能以及适用于大型和小型生产运行的灵活性,为薄膜沉积提供了高效的解决方桉。
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