二手 MRC 903 #293793591 待售

MRC 903是一种脉冲功率、固态溅射设备，设计用于真空沉积工艺的研发。903的最先进的架构以脉冲基板平面磁控管构型为特色，具有直流电和射频溅射能力。其功率范围高达800 W，脉冲宽度范围为1-400 µs。该平台是为最大的灵活性和控制溅射过程而设计的。MRC 903溅射系统具有单或双平面磁控管配置，平面5 "X 5"处理面积，源尺寸为12 "X 12"。它有一个铝制真空室，带有视口，腔室可以下泵至4 x 10-7 Torr的基础真空，最大工作压力为10 mtorr。温度控制和监测由Brooten NSTL-20数字室热控制器管理。带有图形显示的控制面板可控制溅射参数,如功率、脉冲宽度、速率、频率和基板温度。用户友好的宏可通过单键按钮选择最佳操作参数。该软件包括多种预先确定的应用程序配置文件,用于多达10种不同的溅射配置和多种不同的材料。通过对反应性溅射操作的气流进行精确计量，质量流控制器提高了精度。通过对操作过程中最佳压力轨电位的详细控制，实现了较高的性能。903是广泛化合物沉积的理想选择，从绝缘体到半导体。在制造半导体、显示屏、太阳能电池和汽车涂料等薄膜产品方面有广泛的应用。MRC 903具有高精度、高精度、高可重复性，具有大面积沉积的高吞吐量，适用于生产过程。903溅射装置安全可靠，可轻松融入现有真空装置。它具有持久耐用性和低维护要求。机器运行安静，提供了一个小的外形规格，使其适合狭小的空间。MRC 903是任何洁净室研究实验室或工业设施的完美工具。