二手 MRC 903 #9199289 待售

MRC 903是一种先进的桌面溅射设备，提供高质量的薄膜沉积，具有可靠的工艺重复性。它是一个高速、功能齐全的溅射系统，为光学涂层、MEMS、光电子、MEMS和ASIC设备等应用生产薄膜层。903是一个三轴溅射单元，带有石墨源和可旋转的基板支架。它有一个屏蔽5kV晶体管溅射枪和一个气箱，最多有八条气线和两个阀门真空阀。它具有用于溅射的高能电子枪和带有平面目标的电子枪组件。MRC 903还提供了多种辅助源，如离子源、氙等离子源、射频和微波发生器。903有一个独特的三级单元化沉积室，同时允许多个目标的溅射和蒸发与单独的电源和腔室条件。具有良好的沉积室均匀性，具有广泛的沉积参数，包括腔室压力、温度以及气体和电离水平。MRC 903的用户界面非常可自定义,允许精确控制溅射处理。903采用气动驱动的电动直线级结构,可精确移动和定位目标和基板。它有一个双面板，提供稳定，足智多谋的磁场，以保持目标和基板到位。MRC 903的表面磁铁板也可用于控制可旋转基板支架的角位置。903的设计也为基板支架和靶标提供了方便的保护，使其成为薄膜沉积的安全可靠的选择。它包含高质量薄膜沉积所需的所有元素，包括蒸发源、压板、底物和石墨源。综上所述，MRC 903是一款可靠的桌面溅射机，可为多种半导体技术提供高质量、可重复的薄膜沉积。这是一个足智多谋的设备，具有许多特点，以确保高效和有效的薄膜沉积。其出色的设计特点和易用性使其成为需要精确控制溅射操作的研究人员的理想解决方桉。