二手 MRC 903 #9388420 待售

MRC 903是一种用于研发以及工业工作的射频磁控管溅射设备。溅射系统具有一个开放的腔室，可以方便地访问目标材料，以及一个开源，允许精确控制目标材料的选择。它配备了30 kV直流源，能够提供10 mA的最大光束电流，以及用于额外溅射蚀刻控制的离子枪选项。该装置还具有独特的低压真空，允许精确的气体输送和稳定的目标表面。903具有精确的溅射速率和均匀性,这意味着可以操纵目标材料的表面以获得精确的结果。该机器能够产生多种材料选择，包括金属、绝缘体和半导体。MRC 903因其易于使用和用户友好的设计而广受欢迎。该工具包括一个用户友好的界面，具有可调的溅射和蚀刻速率，使用户能够快速和轻松地定制其沉积速率。此外，该资产还包括详细和全面的报告，使用户能够跟踪其溅射工作的进展情况。903具有大磁控管，保证了广泛的溅射选项和沉积。它的大直径25厘米的真空室也允许大溅射目标，这意味着模型可以容纳更大的基板，以及多个样品。再者，设备兼容多种工艺，意味着用户可以进行离子蚀刻和溅射。MRC 903是研发实验室和工业过程的理想工具。它的大腔室尺寸、精确的溅射速率和全面的报告使它成为创建一致、高质量样品的绝佳选择。其用户友好且可定制的界面使其易于使用和调整参数,从而减少了获取结果所需的时间和精力。其可靠的引擎和最顶端的源代码确保了一致的结果和最大的输出。