二手 MRC 903M #9160487 待售

MRC 903M
製造商
MRC
模型
903M
ID: 9160487
Sputtering system Programmable PLC system (3) Cathode positions Load lock CTI 8 Cryopump Dual stage mechanical pump Turbo pump option installed for load lock ADVANCED ENERGY Digital RF power supply ADVANCED ENERGY Digital RF matching network ADVANCED ENERGY Digital DC power supply MKS Digital MFC.
MRC 903M是一种溅射设备,旨在为表面提供薄膜材料的均匀涂层。该装置由Veeco Instruments制造,广泛应用于薄膜光学器件的制造、导电材料在玻璃基板上的沉积以及发光膜的制备。该系统采用改进的磁控管枪结构,以便在大面积上产生均匀的溅射涂层,并具有非常低的轮廓不规则性。MRC 903 M的主要特点是能够控制膜的溅射速率、磁场、电离密度和均匀性。这是通过其集成的四磁控管枪、更大面积的平面目标以及先进的工艺控制软件来实现的。该枪被设计为易于调节,以适应不同的溅射配置,并包括用于优化生产率的内置AI学习算法。903M包括一系列综合安全功能,如生产过程中出现任何违规或安全问题的自动关机。其控制机还允许用户调整离子通量、目标温度、基板温度和射频频率,以优化性能。该工具的综合软件包还可以实现精确的均匀溅射(UPS),从而提高生产效率并增强均匀性。此外,903 M与其他同类系统相比相对紧凑,并包括一个便于维护和清洁的可移动目标室。该资产也适用于任何溅射环境,从一个小的实验室到一个大的生产gooch。此外,该模型设计为节能,可节省高达40%的总生产能源成本。总体而言,MRC 903M是一种用途广泛、可靠的溅射设备,非常适合薄膜材料和光学元件的形成。该系统的综合特性和安全系统确保了最佳性能并缩短了维护时间,使其成为许多薄膜生产和研究应用的首选。
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