二手 MRC 903M #9166698 待售

MRC 903M溅射装置是一种用于薄膜沉积的装置，用于提高金属和半导体等基板的性能。它可以以精确控制和均匀的方式将化合物或元素合金沉积到基板表面。MRC 903 M是专为执行磁控管溅射而设计的，这是一种利用磁场从被溅射到基板上的物体产生电弧的过程。该工艺可用于提高基板的电导率或耐腐蚀性。903M也具有射频溅射的能力，这是溅射的另一种形式。903 M是一种真空系统，配有大功率溅射源和涡轮分子泵，用于维持超高真空。它还具有多冲程控制器和可编程逻辑控制器，用于控制溅射过程的温度、压力和持续时间。该单元可以精确控制溅射气体压力，允许非常薄的薄膜沉积。此外，它还能够在同一基板上同时沉积两种不同类型的金属。MRC 903M非常可靠，能够在各种基板上一致、准确地进行多次溅射。它可以长时间连续运行,而不会显着降低性能。而且，机器非常灵活，可以很容易地针对不同类型的溅射过程进行调整。与其他溅射系统相比，它也很容易维护，而且成本效益很高。由于用途广泛，MRC 903 M溅射工具非常适合用于需要薄膜沉积的多种行业。这些行业的例子包括太阳能、光电、微电子和医疗用品。它能够在单个基板上执行多个溅射过程，这使得它成为一种高效的设备，能够进行精确和经济高效的制造。