二手 MRC 943 #293703391 待售
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ID: 293703391
Sputtering system
Qty / Make / Model / Description
(4) / Granville Phillips / 316 / Vacuum gauge controller
(2) / Varian / 880RS / Vacuum ionization gauge
(10) / SELAC / XT206 / Timer
(2) / MKS / Analog Type 260 / Gas needle valve
(2) / MKS / Display Type 261 / MAS Flow meter
(2) / Varian / - / Diffusion pump
(5) / Assembled / Assembled / Target gun
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Titanium
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Iron
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target -Cobalt
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target - Chromium
(1) / ZLX Tech / - / Sputtering target - Aluminium
(1) / Advance Energy / MDX-1K / RF Generator
(1) / Advance Energy / MDX-5K / RF Generator
(2) / Assembled / Assembled / Vacuum chamber
(2) / ADWARDES / 40-2Satges / Vacuum pump, (40-2 Satges)
(1) / Assembled / Assembled / Step down stablizer, (110-3 Phase)
(2) / Assembled / Assembled / Electric panel.
MRC 943是材料研究公司制造的一种溅射设备。它是一个多源系统，意味着它有能力将几种不同类型的薄膜沉积到基板上。943利用磁控管溅射工艺将涂层沉积到基板上。MRC 943有一个18英寸、六站式溅射室，设计用于容纳多支溅射炮。腔室配有一个高真空单元，底压为10-4毫升。有了强大的涡轮分子泵和可编程的气体控制机，腔室可以达到10-6毫升的压力。射频（RF）电源为六支溅射枪各提供20瓦功率，允许严密控制薄膜沉积。溅射枪装有钨、的或其他惰性的无损溅射目标。要沉积的涂层可以单次沉积，也可以用多个靶子制造出性质不同的多层涂层。943的线性机器人臂允许涂层过程的完全自动化，并且能够一次喷涂整个基板。除溅射外，MRC 943还可用于退火和凋刻应用。退火过程可实现辐射退火，使沉积在基板上的薄膜均匀退火。凋刻工艺用于在集成电路的基板上创建窄凹槽。943还具有可编程控制器和大型彩色显示器以及直观的可编程逻辑控制器（PLC）。凭借其强大的内置自动化控制工具，可以对MRC 943进行无缝、自动的薄膜沉积控制和监控。943是先进可靠的溅射资产，能够以极高的精度沉积薄膜。凭借其多源功能,它提供了广泛的功能以适应不同的应用程序要求。总而言之，MRC 943是一款理想的溅射机型，提供无与伦比的性能和可靠性。
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