二手 MRC 943 #293749818 待售
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ID: 293749818
优质的: 1980
In-Line DC Magnetron sputtering system
Position: 3-Target
RF Cathode system
EDWARDS / CTI CRYOGENICS Cryo-Torr Pump, 8"
LEYBOLD D30A Rotary vane pump
LEYBOLD WSU-151 Roots blower
EDWARDS / CTI 9600 Compressor
Does not include targets
Manuals
Baratron gauge non-functional
Missing parts:
Load lock cryopump
Transport scan motor
1980 vintage.
MRC 943是一种DC/RF溅射设备，用于在科学实验室的基板上生产薄膜。适用于沉积速率范围为0.002至10 nm/s的不同厚度的涂覆材料。该系统由沉积室、射频/直流电源、辅助供气单元和真空机组成。沉积室设有一个垂直安装的磁控管目标，直径可达10英寸，并有一个集成的计数器电极。它连接到包括机械和机油密封泵、干式增压泵以及用于高真空操作的涡轮分子泵的真空工具。此外，该资产还具有辅助气体输送模型，用于溅射过程控制和前体输送。RF/DC电源为均匀的薄膜沉积提供了高达300W的功率，也可用于补偿目标侵蚀。设备高度可定制，可与各种反应气体和前体一起使用。它配备了基于微处理器的控制器，具有多区监控能力。它能够手动或自动操作,并具有先进的健康诊断和安全功能。此外，它还支持远程通信功能，允许远程监控和控制系统，并为用户提供更大的灵活性和便利。简言之，943是一种可靠、高性能的溅射装置，适用于各种薄膜应用。
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