二手 MRC 943 #9199304 待售

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製造商
MRC
模型
943
ID: 9199304
Sputtering system Full RF / DC Sput capabilities (Super switch) MRC RF Etch 3kW RF PS (112-43-000) DC Upgraded to AE 10 kW Master with mini panel included Heater lamps: No load lock (Presently) Gas system upgraded to MKS baratron head, with Ar MFC Independent N2 flow control on gas 2 (2) PLANAR Mag cathodes Inset cathode T-3 Position: KW-Hr run timer Includes: Cryo (8) cold heads Compressors (Air cooled) Cryo lines Mech pump with tool Manuals included.
MRC 943是一种用于薄膜应用的溅射沉积设备。它是一个全自动系统,能够在真空室内溅射沉积单层或多层薄膜。943配备了三个直径12英寸的磁控管源,提供了24.4平方英寸的沉积面积。腔室每次运行最多可容纳28个基材,或25个晶圆。MRC 943有一个集成的闭环过程控制单元,其中包括一个旋转磁控管设施。这使得在每种基材上均匀薄膜的生长成为可能。该机还设有卷到卷工具,能够使用连续溅射目标,并提供多层薄膜的沉积而无需更换刀具。旋转磁控管设施还可以对单个目标进行手动控制,从而可以优化厚度、均匀性等薄膜性能。资产还包括用于目标选择、基板加热和偏置的软件。943的真空室底压为10-6 Torr,动态压力范围为10-3至10-6 Torr。另外,还采用了三级离子泵,以确保高真空和低背景沉积。该模型还包括一个自动基板搬运设备,使其能够自动装卸基板而不会破坏腔室的真空。基板搬运车配备了多个升降机进料,确保一次对多达30个晶片进行高效的基板加工。系统由计算机控制,具有易于使用的图形用户界面(Graphical User Interface,GUI),允许用户自定义各种沉积参数,如功率、目标和基板温度。此外,该单元可以通过RS-232或GPIB接口进行监控。总体而言,MRC 943是一种多用途、功能强大的溅射沉淀机,可用于各种薄膜。开放式腔室设计和自动基板处理使用户能够快速高效地处理大量基板。并且具有调节目标和基体温度的灵活性,因此所生产的薄膜具有极好的均匀性和可重复性。943是需要可靠、高性能溅射工具的大学、研究机构和工业实验室的绝佳选择。
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