二手 MRC 943 #9199346 待售

MRC 943是一种先进的直流磁控溅射设备，用于薄膜涂层应用的研发。它具有大型、可靠的磁控管枪和广泛的沉积速率控制能力。该系统配备了先进的高频谐振腔等离子体发生器，以确保沉积室中等离子体均匀，从而提高性能和精度。943包括一个多室配置,允许在该过程中同时包含多达四种目标材料。MRC 943的集成过程控制单元具有过程参数的闭环控制功能，包括能够毫不费力地调节功率水平、气体流量和气体压力。这台机器能够执行各种溅射涂层步骤序列,以及监控和调整曝光,以确保准确和可重复的沉积结果。此外,板载冷却风扇有助于降低工作温度并提高工具的可靠性和使用寿命。为了以高精度在众多基板上进行沉积，943包括两个独立的独立阴极，可以远程调整以在平面或圆柱形磁场之间进行选择。这种特性可以精确控制电子通量，并在广泛的基板尺寸和形状上均匀沉积。资产由易于使用的控制倾斜显示器操作，包括预设涂层配方，以节省时间和精力。它还具有用于故障排除的自动运行结束诊断功能。此外,用户还可以使用显示沉积压力、温度和工艺参数等信息的可视界面实时监控整个沉积过程并调整配方。MRC 943包含一个完整的软件包,用于配方加载、沉积控制和监控、反馈和报告。还支持其他功能,例如并行控制多个MRC系统、数据记录功能和可编程硬件。简而言之,943是一种功能强大、易于使用且可靠的溅射模型,可提供高精度快速沉积,并具有精确的均匀性和对整个过程的控制。它非常适合研究实验室、科学实验室和工业过程。