二手 MRC 943 #9373252 待售
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ID: 9373252
Sputtering system
Load locked RF and DC
With substrate heat and RF etch
(2) Planer cathodes
Inset cathode
Cathodes: 5" x 15"
Substrate carrier: 13" x 13"
CRT Screen
ADVANCED ENERGY MDX10K DC Magnetron power supply
ADVANCED ENERGY RFX II 3000 RF Generator.
MRC 943是一种溅射沉积仪,通常用于半导体、航空航天、医疗、汽车和其他工业应用。它是一种三束行星几何溅射沉积设备,设计用于以精确、可重复、经济高效的方式生产高质量、一致的沉积物料层。该仪器提供了广泛的处理能力,包括物理气相沉积(PVD)、聚合物沉积和反应性溅射沉积。943由三束溅射源、旋转轴和真空室组成。溅射源配备了三个可单独调节的阴极,提供了同时溅射分离材料的能力。单独的阴极允许多过程沉积,从而简化复杂的模式操作。三个磁性涡轮齿轮提供高达每小时110转的基板旋转,允许均匀涂层。MRC 943的双通道旋转轴使加工时间最小化,允许多层在短短五分钟内沉积。943系统能够沉积具有广泛特性的材料,包括导体、光学涂层和薄膜屏障。该单元利用了广泛的溅射气体和基板可以编程旋转,循环,输送,等等。该仪器配置性强,为用户提供了调整气体压力和处理时间等参数以满足特定应用的能力。此外,MRC 943具有卓越的工艺控制和可重复性,非常适合生产环境应用。943是一种功能强大、精确、成本效益高的溅射沉积仪器,能够产生高质量、均匀的沉积层。它创造了各种各样的加工材料,非常适合各种工业应用,包括航空航天、医疗、汽车等。MRC 943机器为用户提供了多种功能,如多阴极操作和旋转轴,以方便复杂的生产操作。此外,该工具还提供了出色的工艺控制和高精度的精密层和优异的效果.
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