二手 MRC 944 #9266003 待售

MRC 944是一种射频溅射设备，设计用于薄膜的物理气相沉积（PVD）。它使用射频源产生等离子体，为膜沉积提供溅射功率。该系统设计用于高沉积速率、低电压、长寿命和方便用户的操作。944由射频发电机、溅射目标、电源、供气单元和真空室组成。发电机是一种高功率射频源,可为目标材料提供高达2 kW的功率。目标材料通常是金属或半导体材料。电源由射频发电机供电,最多可提供5kV到目标。用于产生溅射目标材料所需的高压。供气机为溅射清洗提供惰性气体进料，为沉积过程提供背景压力。真空室用于在沉积过程中将空气从腔室中排出，保持低压环境。MRC 944的射频溅射过程旨在在具有精确厚度控制的基板上产生均匀覆盖。这是通过调整沉积时间和提供给目标的电源来实现的。沉积速率可以通过改变提供给目标的功率来调节。通过控制等离子体密度和基板偏置电压来实现覆盖的均匀性。采用带磁屏蔽和温度控制的溅射目标，可以提高944的输出。这有助于降低噪音和防止沉积结果不均匀。通过适当的设置，可以产生高质量、可靠的薄膜效果，具有良好的附着力和可重复性。MRC 944工具用于许多领域的薄膜物理沉积，如微电子学、光学涂层、生物医学材料等。它寿命长,维护要求低,界面友好,适合许多实验室和制造应用。944在为许多应用程序提供可靠和一致的结果方面有良好的记录。