二手 MRC Eclipse #9144009 待售

MRC Eclipse
製造商
MRC
模型
Eclipse
ID: 9144009
晶圆大小: 8"
Sputtering systems, 8".
MRC Eclipse是一种溅射设备,广泛应用于各个行业,包括半导体、涂层光学、纳米技术。采用等离子体活化沉积(PAD)技术控制溅射颗粒的动能,保证了卓越的涂层性能和更高的工艺稳定性。PAD Technology允许更高的吞吐量、改进的均匀性和优越的粘附沉积膜。Eclipse结合了改进的设计和专有技术,实现了卓越的溅射过程。它具有一对运动阶段,每个阶段都配有一对基于PC的过程控制器。控制器配备了功能强大且具有前瞻性的软件,允许对溅射过程进行精确控制。高级算法补偿了溅射过程中可能出现的各种非线性现象。此外,该软件允许使用自动批处理功能进行简单的基于配方的处理。MRC Eclipse中的真空室是双壁绝缘,允许增加热稳定性。它还具有优化的设计,可降低运营成本并帮助将气体消耗降至最低。腔室还有一个专用的前室,允许快速腔室吞吐量。Eclipse还包括几项独特的功能,可增强工具性能。高速率压力传感器和反馈芯片不断监控和补偿压力性能,确保最佳工艺稳定性和可靠性。此外,该系统还包括一个可靠的沉积监测器,可连续跟踪设备性能,并为过程优化和过程跟踪提供有价值的信息。所有这些功能使MRC Eclipse成为一台可靠且经济实惠的溅射机,能够提供卓越的质量和性能。它广泛应用于掩蔽、制图、蚀刻等多个行业,其优越的技术和可靠的性能使其成为高精度溅射工艺的理想选择。
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