二手 MRC Eclipse #9144779 待售

MRC Eclipse是为广泛应用而设计的先进溅射设备。它结合了独特的特点，可以在各种基材取向上进行精确的溅射控制处理，适用于薄膜的高精度涂层沉积。Eclipse能够提供高达1000 W的非常高的功率，允许金属的超高速率沉积。它还包括反应性溅射的能力，使先进材料如金属氧化物和氮化物能够沉积。该系统由电能源、气体控制单元、真空室和电源组成。能源是一种电子束源，能够提供高功率和出色的控制，而气体控制机则允许传递惰性和反应性气体。真空室采用硬化不锈钢墙设计，利用先进的热管理系统进行快速高效的加工。与传统的溅射系统相比，MRC Eclipse具有几个优点。它提供了高速率的沉积，具有出色的膜粘附性能，以及对目标侵蚀和过程均匀性的精确控制。它还允许反应性溅射，允许沉积先进材料。此外，它在极端温度下具有较高的沉积速率和良好的薄膜性能。Eclipse设计用于多种行业，能够提供快速高效的生产，并具有极高的质量效果。MRC Eclipse能够提供高度均匀的涂层,并具有精确度和灵活性,因此是满足各种不同需求的理想解决方桉。