二手 MRC Eclipse #9296418 待售

MRC Eclipse是为薄膜沉积而设计的溅射设备。采用物理溅射沉积法在基板上沉积薄膜。该系统设计有一个真空室，它是一个密封室，用来控制溅射膜的质量。腔室有几个端口和阀门，使操作员能够控制溅射气体的流动。当一个通常是金属板的目标被放置在真空室中并暴露于外部能量来源，如射频或直流电时，就会开始溅射过程。当目标被高能粒子轰击时，目标材料的原子被喷射出来并传播到基板上，在那里它们形成一层薄膜。Eclipse是一种高度可配置的单元，允许操作员精确控制薄膜的质量。它可以设置用于一系列溅射过程，如平面、磁控管和溷合溅射，以及反应性溅射。机器还可以配置多个目标和子目标。这允许使用不同材料层增强沉积结果以用于高级薄膜堆栈。该工具采用控制器设计,使操作员能够密切监视过程。该控制器可调节腔室压力、气流、沉积速率、电弧侵蚀和功率水平。它还允许用户为不同的沉积过程编程一系列配方。该控制器还使用户能够轻松存储和召回配方,从而简化沉积。总体而言，MRC Eclipse是一种可靠且可高度定制的溅射资产。它使操作员能够精确地将薄膜沉积在具有可靠沉积性能的基板上。它还提供了一系列易于选择和保存的工艺配方。这样可以确保过程效率和高性能。