二手 MRC Mark II #9230625 待售

MRC Mark II是一种溅射设备，用于真空沉积过程，将金属、半导体和其他材料的薄膜沉积到基板上。广泛应用于航空航天、汽车、生物医学、塑料和纳米技术等多个行业。Mark II由两个主要部分组成：真空室和电源.腔室密封，允许背景压力为1 x 10-6托尔，可以用涡轮分子泵进一步降低。它还包含一个负载锁，用于在真空下从腔室装卸基板。电源是高压直流电源,正向和反向电流均具有可变设置。它通过多个电极连接到真空室，可以进行调节，以便量身定制等离子体。该系统允许不同类型的溅射过程，包括无功、直流磁控管和射频二极管。在反应性溅射中，将Argon、O2等反应性气体引入腔室，对目标材料产生反应。直流磁控管溅射是一个过程，在这个过程中，永磁体被用来产生一个旋转的，由加速离子组成的等离子体，作用在目标材料上。最后，射频二极管溅射是一种将射频功率施加到感应耦合等离子体上以产生电离大气并轰击离子将薄膜溅射到基板上的过程。除了基本的溅射设置外，该单元还提供了额外的功能，如用于将基板精确放置到目标上的高分辨率视觉机、用于基板加热的高精度温度控制以及多种基板配置能力。为了增加安全性，该室设有防爆照明、烟雾控制装置和气密密封。总体而言，MRC Mark II是一种多功能的溅射工具，对沉积过程提供了极大的灵活性和精确的控制。它特别适用于需要低缺陷率的高性能涂层解决方桉的行业。