二手 MRC Mark IV #293652073 待售

MRC Mark IV是一种先进的薄膜沉积溅射设备。它是使用广泛的目标和气体涂覆高均匀性大面积的强大工具。灵活的设计允许各种过程要求。系统的核心是一个多通道射频磁控管溅射装置。这就提高了沉积率，提高了生产效率。该机器能够瞄准尺寸可达350毫米的基板，视野可达140 x 140毫米。标准配置包括最多四个要同时溅射的目标,这些目标配置在3个区域的平台上。每个区域都是独立控制的，可以配置不同的气体，让操作员对过程进行微调。该工具还能够处理广泛的材料，如氧化铝、二氧化硅、钛、氙和铬。根据应用程序的不同,可以选择压力、功率和温度的各种配置,以最好地满足客户的要求。此外,该资产允许在一个周期内使用不同功率的多个目标进行多溅射和多层覆盖。这为客户的薄膜沉积过程提供了更大的控制、灵活性和准确性。Mark IV专为超高精度应用而设计。它具有一个精密的AutoGas™模型，其中使用GMS和氙离子平衡等离子体密度和保证均匀沉积厚度在基质上。正因为如此，MRC Mark IV是广泛的半导体、MEMS和Optics应用，包括涂层玻璃、石英、金属和陶瓷表面的首选设备。该系统还配备了一套诊断工具,包括一个有效的QA/QC单元,称为Process Integrity。这样客户就可以实时监控整个过程,包括目标排放和基板响应。其他工具包括配方控制、全机监控、过程控制和多个关机选项。这样可以确保过程是一致的,并且每次运行都能最大限度地提高产量。总之，MarkIV是一种先进的溅射工具，能够使薄膜平滑、准确地沉积，具有很高的均匀性。凭借其精密的磁控管技术，它可以精密涂覆宽广的区域，以及加工多种材料。它是涂覆高均匀性大面积的强大工具，是半导体、MEMS和光学应用的绝佳选择。