二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse Mark II #9300202 待售

MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse Mark II是一种溅射系统，允许薄膜以非常精确的速率沉积在晶圆上。它由一个带腔室的底座和几个关键部件组成。此基座包含一个射频电源、一个射频加热元件、一个冷冻泵和一个质量流量控制器。腔室包含沉积基板支架、线圈/样品/质量流控制器和快门。真空室具有涡轮分子真空泵和旋转真空进给，以实现进行有效溅射所必需的深真空。RF加热元件用于维持恒定温度，冷冻泵用于在腔室内实现较低的压力和温度。溅射的过程开始于放置一种物质在目标上溅射，然后将一种稀有气体（通常是Ar和Xe）引入腔室并产生等离子体。等离子体轰击目标材料，使原子脱离目标，然后这些原子沉积在基板上，形成薄膜。沉积过程中，百叶窗保持关闭状态，以将腔室与外界环境隔离，并确保只溅射所需的材料。射频功率保持恒定温度，使得溅射过程高度精确且可重复。质量流控制器确保溅射气体的流动和室内温度一致且精确。线圈/样品/质量流控制器通过测量样品压力，不断监测过程并对其进行调节以达到所需的薄膜，为溅射过程提供了稳定性和一致性。Mark II将所有这些组件结合使用,提供了精确且可重复的薄膜沉积。此外,Mark II提供了广泛的控制选项和自动化过程,使用户可以在沉积过程中轻松调整大部分参数、监控过程并进行调整。这种自动化特性使材料研究者能够专注于他们的实验和薄膜沉积的更重要细节。Mark II是高可靠性、精密的薄膜沉积系统。对于需要精确沉积薄膜用于先进材料研究的实验室来说，它是理想的选择。通过将RF电源、RF加热元件、冷冻泵、质量流控制器和快门相结合，能够为先进材料研究提供精确、可重复的薄膜沉积。