二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9226263 待售

MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse
ID: 9226263
晶圆大小: 6"
优质的: 1997
Sputtering system, 6" 1997 vintage.
MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse是一种柔性溅射设备,设计用于薄膜沉积在基板上。它利用射频电源进行溅射和沉积过程,特别适合金属、电介质和半导体的沉积。MRC Eclipse系统包括一个主沉积室和一个包裹样品基板的负载锁定单元。沉积室包含多种部件,包括低噪声射频发生器、等离子体源、冷却线圈和气体注入单元。载荷锁装置设计为减少污染,包含两个站和一个穿梭机构,用于在载荷锁和沉积室之间转移基板。MATERIALS RESEARCH Corporation Eclipse机器是为高沉积速率和高质量薄膜而设计的。射频射频家用发电机产生磁控管产生的功率,在腔室内部产生受控气氛。沉积过程中使用了包括低排放和高排放源在内的多种溅射源。这些溅射源通常是使用氙气和其他反应性或惰性气体如氮气和氧气操作的。利用这些来源,可以产生不同密度、电导率和其他性质的薄膜。对于其他流程,Eclipse工具配备了一系列辅助组件。这些部件包括穿梭室、正向磁控管线圈、质量流控制器、辉光放电源和等离子体发生器。所有这些组件都设计成相互配合,以优化工艺条件和尽量减少污染。MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse资产还配备了集成安全模型。该设备监控温度、压力、工艺供气和腔室条件等各种参数。此外,MRC Eclipse系统允许用户自定义设置以确保最佳性能。这包括能够选择所需的薄膜沉积速率和粒径,以及在必要时修改溅射源和其他成分的能力。MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse单元非常先进,适合多种应用。它可靠易用,是研究实验室和生产环境的理想选择。其灵活、用户友好的设计使得它成为沉积和溅射过程的绝佳选择。
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