二手 MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse #9238093 待售

MRC / MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse
ID: 9238093
晶圆大小: 6"
Sputtering systems, 6".
MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse是一种专为生产薄膜层而设计的溅射设备。常用于生产半导体、复合和光学薄膜。MRC Eclipse是一种单级源/基板溅射系统,具有加热基板级和用于样品制备的架空负载锁。MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse模型配备了13.56 MHz、400 W、单频、磁控管溅射源,设计为流动1-4 cm3/min稀有气体,允许更高的目标侵蚀率。源提供两组输出,第一个脉冲提供快速溅射,从而增强基板的清洁,第二个脉冲保持均匀覆盖,同时创建一个污染物较少的更均匀的层。Eclipse设计为手动或全自动模式运行。自动化模式有一个电脑界面,允许容易的单元操作,并允许用户保存和加载自己的食谱。计算机还能够监控机器参数如压力和稀有气体的流量,允许精确控制溅射参数。MRC/MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse的活性底物温度范围为-150至+600°C,允许不同材料的氧化退火等广泛的薄膜沉积应用。活动基板定位器还允许样品从一个定位器加载到另一个定位器,从而便于在进程运行之间更改样品。MRC Eclipse还具有许多功能,旨在保持流程可重复性并减少停机时间。它具有自动室内清洁循环功能,旨在最大限度地减少室内堆积的溅射材料。它还有一个自动化的原位石英晶体监测器,可以精确监测薄膜的增厚和质量。所有这些特性使MATERIALS RESEARCH CORPORATION Eclipse成为一种强大的溅射工具,能够满足各种薄膜沉积应用的需求。它的可重复性、高温范围、自动化操作和高溅射速率使其成为可靠且经济高效的沉积资产。
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