二手 MRC Redux #293652074 待售

MRC Redux是一种用于现代工业和研究环境中的溅射系统，用于将材料的薄层沉积到基板上。它的工作原理是在一个疏散室内产生一个等离子体，并用它轰击目标物质，使它们被溅射，然后沉积在基质上。这个过程非常精确，因为层的厚度可以精确控制。在Redux的心脏是一个包含一个过程气体的真空室，如氙气、氙气或氮气。这样就可以为进程提供一个稳定的环境。真空室上方是一个溅射目标，它是用于薄层的材料。目标放置在基板上，基板是涂层的材料。为方便溅射过程，使用磁控管头产生电场。这种电场导致电子从过程气体中发射出来，在腔内形成等离子体大气。在这个等离子体内，过程气体的正离子沿溅射目标的方向传播，对其进行轰击并造成物质较小原子的释放。等离子体中的负离子被吸引到底物材料上，而正是这种正离子和负离子的结合使涂层能够被施加到底物材料上。磁控管的放电通常低于500W，但是这可以根据具体过程进行必要的调整。可以通过调节磁控管的气流、压力和放电功率来控制从目标上除去的物料数量。这样可以提高施加到基材上的材料厚度的精度。另外，等离子体可以变化产生不同的发射光谱来改变涂层的特性。总体而言,选择MRC Redux是因为它在薄层涂层材料方面具有灵活性、准确性和可靠性。这个过程产生一个干净、均匀的层，非常适合许多工业和研究应用。