二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #293807041 待售
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MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV是一种先进的溅射设备，旨在提供溅射沉积过程中的卓越性能水平。该系统利用多直流（直流电）阴极电弧源产生低能离子束，为一致层沉积创造最佳环境。该单元具有双水平平面运动和高度精确的舞台旋转，以及平滑的运动控制和集成的自动化工艺配方。这使得高质量平板显示材料和各种光学元件的厚度控制更加可靠。该机采用10面方形腔室，有四个独立的溅射源，彼此独立运行，吞吐量更高，总成本更低。刀具的加工能力还可以使基板从溅射源旋转+/-90°,而负载锁定则可以控制温度,并注重提高基板的保持精度。此外，该资产还在溅射源和基板持有者之间提供了极好的自对准。Mark IV利用用户友好的图形用户界面（GUI）使模型的操作直观明了。此GUI为用户提供了多种工艺，如直流（直流电）溅射、射频（射频）溅射、蒸发和化学气相沉积等进行选择。此外,设备的高性能群集计算系统还有助于优化吞吐量和流程。Mark IV先进的总质量流量控制（TMFC）技术有助于在溅射沉积过程中优化溅射源条件和腔室压力，减少溅射源之间的气流交叉污染。这种TMFC技术还可以确保精确的过程控制和一致的薄膜质量以及最小化的变化。此外，该装置还配备了获得专利的脉冲溅射源技术，可实现高效、均匀的薄膜沉积和蚀刻。综上所述，MRC Eclipse Mark IV是一款最先进的溅射机，旨在提供出色的溅射沉积性能。其先进的特点和技术，如多直流阴极电弧源、双水平平面运动、TMFC技术以及获得专利的脉冲溅射源技术，使其非常适合用于FPD等光学相关行业的优质薄膜沉积应用。
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