二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9108489 待售

MRC（前称TEL）MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一种健壮的溅射设备，利用惰性气体将原子从目标材料中移出，并通过沉积在基板上来覆盖基板表面。该系统的低能耗特性包括一个可变量级（高能或低能）溅射源和一个紧凑的腔室，具有紧密集成的工艺控制设计。MRC Eclipse Star的功率范围为1-15 kW，最大溅射速率高达3 nm/min。它配备了两种端站运行模式：直列站和边缘站。串联模式支持传统的溅射过程，溅射源放置在远离晶片表面的位置。另一方面,边缘站模式使溅射源更靠近晶圆表面,从而创建边缘定义的氧化层。这种溅射装置提供热和射频应用支持，同时容纳低能和高能涂层。电子回旋共振（ECR）和电源前馈（Power Feed Forward，PFF）使得全场等离子体控制成为可能，并在机器中内置先进的过程控制和反馈算法。此外,电源通过使用PowerSource模块来调节,这些模块可调节高达500 kHz的射频信号。TEL Eclipse Star可以使用多个气源，最多四个质谱仪，最大晶圆尺寸为200mm。预先安装的布线棘轮防止过度扭动,其SCARA机器人提供更快的加载、卸载和晶圆处理速度。该工具的高级功能集还包括一个多目标溅射室，使多种不同的材料能够沉积在单个基板上。Eclipse Star还能够进行现场诊断和资产监控。其先进的诊断功能超出了目视检查，并有一个用于原位化学分析层的提取端口被沉积。这些特性使TOKYO ELECTRON Eclipse Star模型能够提供高精度和可重复、可靠、100%可重复的结果。设备还具备闭环过程控制、快速晶圆端点检测、精密蚀刻控制、全自动操作等先进能力。