二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9112093 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一种用于薄膜沉积的多目标溅射设备。适用于涂覆各种不同材料的薄膜，包括金属和电介质。MRC Eclipse Star可以生产出极好的均匀性和附着力的薄膜，使其在光电和平板设备的生产方面表现出色。溅射系统基于多目标磁偏射频激发室。该装置能够同时从两个目标进行溅射，从而实现更高的沉积均匀性和更快的处理时间。TEL Eclipse Star配备了高灵敏度的反应性气体进料机，用于可调过程控制。阀门和泵可以在一个集成的控制工具内编程，它允许用户精确监控和调整过程参数。一个集成真空资产允许低基压操作和高效溅射。Eclipse Star高效的目标设计可实现更高的沉积速率和更厚的薄膜。最大薄膜厚度可超过14微米。此外,TOKYO ELECTRON Eclipse Star可以精确地沉积高精度和均匀性的薄膜.其先进的功能还允许运营商实现对薄膜性能的更精细控制，如蚀刻速率和热稳定性。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star的用户界面提供了各种功能来记录、分析和存储有关工艺参数的数据。它符合适用的全球安全和环境标准，以确保保护使用者和环境。用户还可以安装可选模块,例如远程访问和基于Web的远程控制,以全面监控模型。MRC Eclipse Star适合处理多种材料，包括金属、电介质等材料。它配备了一系列的清洁配件和一个可选的等离子体预清洗单元，为优秀的薄膜沉积质量。该设备可用于生产具有良好附着力的光滑无裂纹薄膜，非常适合用于高精度应用。总之，TEL Eclipse Star是一种高度先进的溅射系统，具有多目标、工艺参数精确控制、薄膜沉积质量优良等特点。适用于多种应用，非常适合生产光电平板设备。