二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9222754 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一种物理气相沉积（PVD）溅射设备，设计用于以受控、高效的方式将材料薄膜沉积到基板上。MRC Eclipse Star配备了8英寸单晶片负载锁室，减少了来自大气的污染。该系统与各种材料和基材兼容，非常适合各种定制涂层应用。TEL Eclipse Star具有广泛的溅射源，包括平面磁控管、多片式目标或由多种射频和直流电源供电的专用阴极。这可以使材料有针对性地以各种格式沉积到基板上。该装置还采用低基板加热技术，提高了溅射膜的均匀性，同时沉积在温度敏感材料上。TOKYO ELECTRON Eclipse Star是为了最佳的过程控制而设计的，有一个用于使用者输入和机器监控的网路PC。它还具有闭环过程控制功能，通过对溅射参数的闭环控制，实现了精确、可重复的涂层性能。该工具由一组附件完成，包括温度控制器、多气体阀、基板旋转和线性运动跟踪器。此外，资产还具有改进流程控制的高级流程监控功能，包括自动化调整模型，允许在沉积过程中快速准确地进行流程调整。它还包括一个功能强大的计量软件和硬件集合，包括SECS/GEM协议，使闭环过程控制和过程结果的实时过程监测成为可能。Eclipse Star是一种经济高效的解决方桉,可满足各种薄膜沉积需求,提供高效、可靠且可重复的涂层效果。它具有易于安装和维护的模块化设计,以及广泛的溅射源、温度控制系统和定制附件,使设备适合定制工作流程。先进的工艺监控功能和计量硬件和软件使MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star成为任何薄膜沉积应用的理想解决方桉。