二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Star #9314540 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star是一种溅射设备，设计用于生产微电子、光电和微机械装置等应用，在进行薄膜沉积和蚀刻时提供高精度、准确性和可靠性。该系统由高真空室、低真空室和一系列工艺控制器及相关设备组成。溅射装置主要用于金属、氧化物和氮化物薄层在薄膜或基板上的沉积。机器的高真空室在高于10-7 Torr的真空水平下运行，为超高纯度沉积提供了超低颗粒密度。该工具旨在提供从10-7到10-6 Torr的一系列压力设置。包括用于基板装卸的自动锁载资产，从而形成一个清洁和无污染的环境。MRC Eclipse Star的低真空室在10-3至10-5 Torr运行，允许高真空室和大气层之间的中间区域。低真空室具有多个目标位置，允许同时溅射多种沉积材料，允许各种薄层微结构。TEL Eclipse Star由一系列高级流程控制器提供动力，这些控制器可以编程为监视、调节和维护多种关键参数。这些控制器为用户提供了对诸如流量、压力和温度等参数的精确控制。该模型的软件包为用户提供数据监控、分析和控制，从而提高了流程精度。Eclipse Star旨在使用户能够创建高纯度和低针孔的薄膜。该设备配备了原位诊断机制，如在溅射过程中监控样品温度的红外摄像头，以及监测每个溅射物种光激发态的光发射光谱仪。这允许用户精确监控溅射沉积过程。在其他精密薄膜沉积和蚀刻应用中，TOKYO ELECTRON Eclipse Star提供可靠和均匀的薄膜，为要求最苛刻的元件提供精确定制的微观结构。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Star溅射系统旨在为用户提供无与伦比的性能和可靠性。