二手 NANOTEC SPH-200T #9048860 待售

NANOTEC SPH-200T溅射设备是一种用户友好的溅射沉积系统，旨在轻松地将薄膜沉积在多种基板上。它配备了（RF）射频高频（RF）电源和高精度、闭环控制单元。其腔室尺寸为300 x 200 mm，适用于刚性和柔性基材类型的薄膜沉积。SPH-200T非常适合将各种薄膜材料沉积到玻璃、石英、氧化物、金属、塑料等基材上。它利用最多五个独立的目标，最多两个可用于18英寸的基材尺寸。它还能够模拟一个目标的多层处理。NANOTEC SPH-200T机利用不同的射频溅射模式满足不同的应用需求。高密度（HD）模式是理想的应用，在高沉积速率下需要更高的均匀性，而低密度（LD）模式适合溅射到较困难或易碎的基板上，如柔性基板或氧化半导体晶片。SPH-200T工具还可用于氧气和氮气等反应性气体的等离子体增强沉积（PED）。资产的集成、用户友好的控制软件可实现高效、准确的薄膜沉积。使用者可以监视沉积参数，例如溅射压力、功率和时间，以及温度。NANOTEC SPH-200T溅射模型易于操作、维护和维修.使用可靠、极安全、成本效益高。它的模块化设计和小尺寸使其能够适应不同的实验室或制造环境。凭借其紧凑的设计,它还易于执行过程验证和复制。