二手 NEXX SYSTEMS Apollo XP #9137851 待售

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ID: 9137851
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
Sputtering system, 6" Process : PVD Manual front end Load lock degas with (1) roughing pump Deposition chamber capacity for 5 magnetrons 10kW power supply (2) 8” Cryo pumps M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt Ni Loop Magnetron for Ni SECS/GEM P/N : K11227150 2004 vintage.
NEXX SYSTEMS Apollo XP是为研发和批量生产应用而设计的精密溅射设备。阿波罗XP能够以低功耗、高精度溅射金属、氧化物、半导体等各种目标材料。该系统配有垂直目标布置均匀溅射,以及高能离子源轰击目标。它有一个真空室,体积大,能够容纳多个工艺头,并允许薄膜沉积在各种基板上,从晶片到平板显示器。NEXX SYSTEMS Apollo XP利用先进的计算机控制薄膜沉积控制软件,准确监控和调整工艺参数。它提供了几个级别的可编程性,一次最多可管理16个溅射目标,最多24英寸的可用目标区域,以及最多21 ″的基板。凭借其先进的Q系列目标,Apollo XP提供了一种生产光学平衡薄膜结构的可靠、灵活和经济高效的方法。该设备采用9英寸对角触摸屏控制器进行直观操作,该控制器具有以太网控制和机器诊断功能,使用户能够通过网络远程监控和调整流程参数。此外,该工具还具有集成的Class-1清洁室兼容设计,每个工艺头都包含针对氧气、氢气、氮气、氙气、氦气等多种气体的单独进气口。NEXX SYSTEMS Apollo XP拥有精确的温度控制,温度范围为+4°C至+250°C,均匀度为± 1°C。它还利用了最先进的冷却资产,使内部冷却模型温度保持在环境温度5°C以内。该设备保持了所有工艺的最佳稳定性,为精密薄膜沉积创造了最佳条件。Apollo XP是一个可靠高效的溅射系统,专门为满足研发和批量生产环境的需求而设计。它以经济实惠的成本提供高精度薄膜沉积,是各种薄膜应用的理想选择。
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