二手 NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP #9212853 待售
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已售出
ID: 9212853
晶圆大小: 12"
Sputtering system, 12"
Loadport type: Porta 300, 12"
EFEM Robot type: GENMARK GB7 (3L7S030635)
Degas
Tray type: T-cool
RF Generator: ICP
3155031-031A RF Match
(5) Magnetrons:
Magnetron types:
Ti (G1)
TiW(G1)
Cu (M4)
Cu (M4)
Cu (M4)
3152422-112S Magnetron power supply
MFC Type:
MFC1-Model: 1179A22CR15V-S
MFC2-Model: 1179A00422CR15V
EBARA VOS100P Dry pump
Cryo pump (etch chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8116199G001
Cryo pump (dep chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8115914G001
Cryo pump side (dep chamber): CTI-8F Cryo pump, p/n: 8116199G001
Ion gauge (etch chamber): 354005-YE-T
Baratron (etch chamber): 627BU5TDDIB
Ion gauge (dep chamber): 354005-YE-T
Baratron (dep chamber): 627BU5TDDIB.
NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP是为关键应用程序设计的强大、高性能的溅射设备。该系统采用全不锈钢内饰和铝外饰，具有卓越的耐用性和高水平性能。Nimbus 364XP包括一个4室反应室，能够同时处理各种材料，同时精确控制工艺参数。该单元还包括高端电源、用于样品支架精确定位的集成3D步进电机，以及新设计的VacuumMaster Plus控制机（VMPC），以确保一致可靠的运行。NEXX SYSTEMS Nimbus内置的高端电源364XP提供必要的电源来溅射所选择的材料,并利用先进的脉宽调制和电压脉冲技术来确保理想的等离子体条件,这对于完全可重复的过程至关重要。还有一个气体流量控制单元（GFCU）与该工具集成在一起，在过程中提供对通过腔室的气体流量的精确控制。雨云364XP的综合反应室由四个独立的腔室组成，每个腔室都能溅射不同的材料，以便于多层的过程，提供一致和可预测的结果。3 D步进电机确保每个腔室中样品支架的精确定位，以优化工艺。VacuumMaster Plus Control Asset （VMPC）通过详细的错误记录和实时状态监控,确保了模型的可靠一致运行。VMPC还包括允许用户监控流程参数、根据需要调整流程以及监控进度的程序。整体NEXX SYSTEMS Nimbus 364XP提供了一种强大可靠的溅射设备,用于生产精确的薄膜层。该系统具有良好的重复性和工艺参数控制能力，多用途的四室设计可同时处理多种材料。先进的电源和集成的3D步进电机可确保卓越的性能,而VMPC可确保可靠和一致的运行。
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