二手 NEXX SYSTEMS Nimbus XP #9372726 待售
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ID: 9372726
PVD Sputtering system
With NEXX 003 Control panel
Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 150 A, 3 Phase.
NEXX SYSTEMS雨云XP溅射设备是为薄膜工艺研发而设计的集成溅射沉积平台。该系统利用真空室和高能等离子体源将一系列材料沉积到放置在真空室的基板上。这允许用户对包括金属、半导体和绝缘体在内的多种材料应用各种厚度和均匀性的薄膜层以及沉积速率。该装置能够提供小面积样品以及生产尺寸不超过8英寸的晶片。Nimbus XP利用真空内旋转进料和提升机构，以确保较大沉积区域的均匀性。该机构设计时采用倾斜底部，以尽量减少污染堆积。另外，转盘的磁悬浮导致低摩擦和高度均匀的沉积速率。该机器还利用真空转移，使样品能够在不造成污染的情况下放入室内。控制器采用直观的菜单驱动设计,并与自动化操作所需的所有必要软件模块集成在一起。这包括用于目标表面优化、粒子通量测量、数据记录、过程控制和参数跟踪的软件。对于手动操作，控制器有一个触摸屏液晶显示屏，带有微处理器控制的旋转开关和菜单项。此外，该工具有两个独立的互锁等离子体源，每个源都可以调整到精确的基板沉积参数。资产的性能由一个复杂的真空和室内监测模型密切监测。这包括温度、流量和气体种类，以确保最佳工艺条件。此外，该设备还具有内置离子源，能够测量真空室内正离子的通量。这使用户能够快速准确地监控室内流程。为了准确再现薄膜沉积过程，该系统还具有多种安全联锁功能。这包括自动接地故障联锁、机柜内部排气通风以及硬线防护屏蔽。此外,该设备还采用集成节能模式,允许用户节省高达50%的能源成本。总体而言,NEXX SYSTEMS Nimbus XP Sputtering Machine是一个最先进的平台,它为用户提供了一个集成的解决方桉,用于在基板上精确、均匀地沉积薄膜。Nimbus XP具有多种安全特性、高度直观的控制器和自动化的操作功能,是精确控制薄膜沉积的完美解决方桉。
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